光學材料鍍膜北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

真空濺射鍍膜北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

磁控濺射鍍膜北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

柔性材料鍍膜北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

離子束濺射沉積北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

離子刻蝕技術北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

氬離子刻蝕技術北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

離子束拋光機北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

新材料傳感器北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

離子束鍍膜設備北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

高精度薄膜電阻北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

叉指換能器廠家北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

聲表面波器件北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

薄膜壓力傳感器北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

離子束鍍膜機北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%