合肥臥濤生產力促進中心有限公司
認證資料 Certification Data
合肥臥濤生產力促進中心有限公司
- 聯系人:江漁
- 所在行業(yè):服務-商務服務-其它商務服務
- 經營模式:服務商
- 主營產品:高新技術企業(yè),專利,工程技術研究中心
- 所在地:安徽省-合肥市-蜀山區(qū)合肥高新區(qū)柏堰科技園香樟大道188號科研樓A幢1101室
- 供應產品:2
合肥市集成電路布圖設計專利申報好處及流程(常見問題解釋)
發(fā)布時間:2021-01-06合肥市集成電路布圖設計專利是怎樣的?申報好處及流程有哪些?通常企業(yè)單位都會考慮這些問題:專有權哪些人可以享有集成電路布圖設計專有權?集成電路布圖設計專有權保護期限多久?獲得集成電路布圖設計專有權有什么好處?哪些產品可以獲得集成電路布圖設計專有權?下面小編將會告訴你!詳情可以直接咨詢以下:
什么是集成電路?
集成電路,是指半導體集成電路,即以半導體材料為基片,將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片之上,以執(zhí)行某種電子功能的中間產品或者產品。
什么是集成電路布圖設計?
集成電路布圖設計,是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連的三維配置,或者為制造集成電路而準備的上述三維配置。
什么是集成電路布圖設計專有權?
集成電路布圖設計專有權是根據《集成電路布局設計保護條例》對具有獨創(chuàng)性的集成電路布局設計進行保護的一種知識產權。它與專利權、著作權等一樣,是知識產權的分支。
合肥市集成電路布圖設計專有權申報條件
(1)圖樣:包括該布圖設計的總圖和分層圖,以適合A4紙的大小打印在A4紙上;每頁紙打印一幅圖;當圖紙有多張時,應順序編號。
(2)圖樣的目錄:應寫明每頁圖紙的圖層名稱。
(3)樣品:所提交的4件集成電路樣品應當置于專用器具中,器具表面應當貼上標簽,寫明申請人的姓名和集成電路布圖設計名稱。
(4)簡要說明:說明該集成電路布圖設計的結構、技術、功能和其他需要說明的事項。
(5)光盤:光盤內存有該布圖設計圖樣的電子文件。光盤表面應當寫明申請人的姓名和集成電路名稱。
集成電路布圖設計專有權申報好處
獲得集成電路布圖設計專有權后,未經布圖設計權利人許可,他人不得:
1、復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分。
2、為商業(yè)目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品。
有上述行為之一的,被認為侵犯布圖設計專有權,行為人必須立即停止侵權行為,并承擔賠償責任。
集成電路布圖設計專有權申請流程及常見問題
申請人集成電路布圖設計登記時應提交哪些文件?
1、必須提交的文件:
(1)集成電路布圖設計登記申請表的一份。
(2)圖樣一份。
(3)圖樣的目錄一份。
2、可能需要提交的文件:
(1)布圖設計在申請之日前已投入商用的,申請登記時應當提交4件樣品。
(2)申請人委托代理機構的,還應提交集成電路布圖設計登記代理委托書。
3、此外,申請人還可以提交:
(1)包含該布圖設計圖樣電子件的光盤。
(2)布圖設計的簡要說明。
常見的不受理原因?
1、未提交布圖設計登記申請表或者布圖設計的復制件或者圖樣的,已投入商用而未提交集成電路樣品的,或者提交的上述各項不一致的;
2、布圖設計自創(chuàng)作完成之日起滿15年的;
3、布圖設計自首次商用之日起滿2年的;
4、申請類別不明確或者難以確定其屬于布圖設計的,例如電板設計;
5、未按規(guī)定委托代理機構的。
提交申請文件之后的流程
申請人提交的申請文件,經審查后,未發(fā)現形式的缺陷的,審查員發(fā)出受理通知書和繳費通知書;存在形式缺陷的,審查員發(fā)出受理通知書和補正通知書,申請人應按補正通知書上的要求,在規(guī)定的期限內補正材料,如果經補正已克服全部缺陷,則審查員發(fā)出繳費通知書。
提醒,集成電路布圖屬于I類知識產權,申請周期較短(1-2個月拿證書),費用低(4000元)。
哪些人可以享有集成電路布圖設計專有權?
1、中國自然人、法人或者其他組織創(chuàng)作的布圖設計,依照《集成電路布圖設計保護條例》享有布圖專有權。
2、外國人創(chuàng)作的布圖設計首先在中國境內投入商業(yè)利用的,依照條例享有布圖設計專有權。
3、外國人創(chuàng)作的布圖設計,其創(chuàng)作者所屬國同中國簽訂有關布圖設計保護協議或者與中國共同參與有關布圖設計保護國際條約的,依照條例享有布圖設計專有權。
集成電路布圖設計專有權保護期限多久?
集成電路布圖設計的保護期為10年,自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起計算,以較前日期為準。但是,無論是否登記或者投入商用,布圖設計自創(chuàng)作完成之日起15年后,不再受《集成電路布圖設計保護條例》保護。