光刻膠清洗設(shè)備

等離子清洗機是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)，等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或郭的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時會發(fā)生輝光，等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，并轟擊被處理物體表面，達到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有機物，以及其它化學(xué)物質(zhì)，從而達到表面處理、清洗和刻蝕效果，經(jīng)過等離子處理工藝可以實現(xiàn)有選擇的表面改性。