選擇Uv電鍍技術(shù)有什么優(yōu)勢特點？

發(fā)布時間：2020-04-07

真空uv電鍍具有以下優(yōu)點： （1.沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系（2.節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達到節(jié)約的目的（3.無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當小。

UV真空鍍膜具有許多優(yōu)點：??1，選擇的涂層數(shù)據(jù)大于數(shù)據(jù)熔點約束。因此，除了常見的鋅、鋁、錫和鍍鋅外，幾乎所有的金屬材料都能沉積，金屬氮化物薄膜被鍍上金屬氧化物薄膜和許多品種。金屬碳化物及各種復合薄膜。這為發(fā)展新型帶材提供了很大的自由度。??2，涂層材料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬于無有害液體或氣體的干式涂料。??3、帶鋼涂布質(zhì)量好，鍍層光滑均勻，鍍層薄，純度高，附著力好，耐腐蝕。鋼帶在涂敷前可以用電子束預熱，表面被激活。該鍍層純度高，無硬脆合金層。它可以被壓入一個小管而不會從涂層中脫落。??4、技術(shù)靈敏靈敏，便于更換品種，根據(jù)商品對帶材的敏感要求，單面和雙面單層和多層，并結(jié)合兩種數(shù)據(jù)可達到混合鍍膜。鍍層厚度易于控制，可鍍超薄。

專業(yè)真空UV電鍍材料技術(shù)與濕式鍍膜材料技術(shù)相比具有明顯優(yōu)勢：1、膜材和基體選材廣泛，膜的厚度可以進行控制以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。2、真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。3、與基體附著強度好，膜層牢固。4、真空UV電鍍生產(chǎn)廠家既不產(chǎn)生肺液也無環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)在電子學等方面主要用來制造電阻和電容元件。用真空鍍膜代替電久工藝，不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗，而且還會消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的污染。

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